Sodium Hydroxide Solution（氢氧化钠溶液），10N
Sodium Hydroxide Solution（氢氧化钠溶液），10N应存放于冷暗处，能放于普通冰箱内。放置时间不宜超过一周，倾注的平板培养基不宜超过3天。每批培养基均必须附有该批培养基制各记录副页或明显标签
Tris-HEPES-SDS Running Buffer,10X
Tris-HEPES-SDS Running Buffer,10X应存放于冷暗处，能放于普通冰箱内。放置时间不宜超过一周，倾注的平板培养基不宜超过3天。每批培养基均必须附有该批培养基制各记录副页或明显标签
RNase-free Tris盐酸溶液，1M,pH7.5
RNase-free Tris盐酸溶液，1M,pH7.5应存放于冷暗处，能放于普通冰箱内。放置时间不宜超过一周，倾注的平板培养基不宜超过3天。每批培养基均必须附有该批培养基制各记录副页或明显标签
Yeast Lysis Solution for DNA Isolation
Yeast Lysis Solution for DNA Isolation应存放于冷暗处，能放于普通冰箱内。放置时间不宜超过一周，倾注的平板培养基不宜超过3天。每批培养基均必须附有该批培养基制各记录副页或明显标签
TES Buffer,0.2M,pH7.0
TES Buffer,0.2M,pH7.0应存放于冷暗处，能放于普通冰箱内。放置时间不宜超过一周，倾注的平板培养基不宜超过3天。每批培养基均必须附有该批培养基制各记录副页或明显标签
Wash Buffer,pH8.0
Wash Buffer,pH8.0应存放于冷暗处，能放于普通冰箱内。放置时间不宜超过一周，倾注的平板培养基不宜超过3天。每批培养基均必须附有该批培养基制各记录副页或明显标签
RNase-free Sarkosyl溶液,10%
RNase-free Sarkosyl溶液,10%应存放于冷暗处，能放于普通冰箱内。放置时间不宜超过一周，倾注的平板培养基不宜超过3天。每批培养基均必须附有该批培养基制各记录副页或明显标签
Tricine-SDS Sample Buffer,2X), reducing
Tricine-SDS Sample Buffer,2X), reducing应存放于冷暗处，能放于普通冰箱内。放置时间不宜超过一周，倾注的平板培养基不宜超过3天。每批培养基均必须附有该批培养基制各记录副页或明显标签
TE Buffer,20X,pH7.4
TE Buffer,20X,pH7.4应存放于冷暗处，能放于普通冰箱内。放置时间不宜超过一周，倾注的平板培养基不宜超过3天。每批培养基均必须附有该批培养基制各记录副页或明显标签
TBS-Tween-20 (TTBS),20X
TBS-Tween-20 (TTBS),20X应存放于冷暗处，能放于普通冰箱内。放置时间不宜超过一周，倾注的平板培养基不宜超过3天。每批培养基均必须附有该批培养基制各记录副页或明显标签